格隆匯3月19日｜比利時半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC表示，已取得一臺阿斯麥High NA極紫外光(EUV)微影設(shè)備，價值約4億美元。這款設(shè)備全球僅有不到十臺，被視為下一代芯片制造的重要關(guān)鍵設(shè)備，將協(xié)助產(chǎn)業(yè)推進(jìn)更先進(jìn)制程技術(shù)的研發(fā)與測試。IMEC指出，這臺High NA EUV設(shè)備將成為其NanoIC試產(chǎn)線的核心設(shè)備。該試產(chǎn)線總投資規(guī)模達(dá)25億歐元，其中約14億歐元來自公共資金，包括歐盟《芯片法》提供的支持。IMEC長期采用共享研發(fā)模式，讓半導(dǎo)體企業(yè)與研究機(jī)構(gòu)在類似晶圓廠的環(huán)境中，共同測試并開發(fā)最新制造技術(shù)。