LM TEK旗下品牌EK近日發布了一款專為英偉達RTX PRO 6000 Blackwell顯卡設計的分體式水冷解決方案——EK-Pro GPU WB RTX PRO 6000 SE。該產品通過創新設計將高性能顯卡的物理尺寸壓縮至單槽全高全長（FHFL）標準，為數據中心和高端工作站提供了4U機架內部署8塊GPU的硬件基礎。
散熱模塊采用CNC精密加工的鍍鎳銅基座，配合激光切割不銹鋼頂蓋與鋁合金底殼的復合結構，實現對GPU核心、GDDR7顯存顆粒及VRM供電模塊的全覆蓋散熱。其核心冷卻引擎通過優化噴淋板與鰭片陣列的流體動力學設計，在保持低流阻特性的同時顯著提升熱交換效率，確保顯卡在滿負荷運行時維持穩定的工作溫度。
針對高密度部署場景，該冷頭在結構設計上進行了多項突破。尾部采用POM工程塑料注塑成型的接口模塊，集成雙G1/4"規格的黃銅進出水口，支持快速管路連接；前端通過定制化I/O擋板將整機寬度嚴格控制在22mm，既保留了完整的視頻輸出功能，又避免了多卡并排時的空間干涉。所有流體接觸面均配備EPDM橡膠密封圈，配合陽極氧化處理工藝，有效防止冷液泄漏并提升系統耐腐蝕性。
這款專業級水冷頭通過模塊化設計實現了散熱性能與空間利用率的平衡，特別適用于需要極致計算密度的人工智能訓練、科學計算等場景。其兼容標準液冷管路系統的特性，也為現有數據中心基礎設施的升級改造提供了便利選項。
